地方独立行政法人 神奈川県立産業技術総合研究所
□■ナノファブスクエアin海老名開催のお知らせ■□

ナノファブスクエアin海老名について
 当研究所では、慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムと、川崎市とで連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、海老名本部の先端機器による「ナノファブスクエアin海老名」講習・実習会を開催します。

  1. ◆第3回 シリコン酸化
    シリコン基板に熱酸化法による薄膜を形成し、フォトリソグラフィにより、マイクロ流路パターンを形成します。

    日程:6月10日(木) 13:30~16:30
    受講料:11,000円
    募集締切:5月19日(水)※先着順です。定員に余裕がある場合、申込締切日以降の申込も受け付けます。
    詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano-1/
  2. ◆第4回 シリコン異方性エッチング
    シリコン基板上に、熱酸化膜をマスクとして、異方性ウェットエッチングによるマイクロ流路のパターンを形成します。

    日程:6月17日(木) 13:30~16:30
    受講料:11,000円
    募集締切:5月28日(金)※先着順です。定員に余裕がある場合、申込締切日以降の申込も受け付けます。
    詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano-2/
  3. ◆第5回 ナノパターン形成
    シリコン基板に塗布されたレジストに、電子線描画によりハーフピッチ200nmのパターンを形成します。

    日程:6月24日(木) 13:30~16:30
    受講料:11,000円
    募集締切:5月28日(金)※先着順です。定員に余裕がある場合、申込締切日以降の申込も受け付けます。
    詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano-3/
  4. ◆第6回 陽極接合
    ガラスとマイクロ流路を形成したシリコン基板を陽極接合する講義・実習を行います。陽極接合は、シリコンMEMSチップ実装の封止に使用される技術です。

    日程:7月1日(木) 13:30~16:30
    受講料:11,000円
    募集締切:6月14日(月)※先着順です。定員に余裕がある場合、申込締切日以降の申込も受け付けます。
    詳細申込:https://www.kistec.jp/learn/sme/newt/nano-4/

問い合わせ

(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)
 人材育成部 教育研修課 産業人材研修グループ
 TEL:046-236-1500 FAX:046-236-1527 E-mail:sm_sangyoujinzai@kistec.jp

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